温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种真空传输制程设备及方法。该设备包括：一真空制程腔，包括一加工区域、一第一等待区域以及一第二等待区域；一能够在大气状态与真空状态之间切换的进出件腔；多个传输平台，用于承载工件从大气环境进入该进出件腔、从该进出件腔经过该第一等待...
该专利属于上海凯世通半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海凯世通半导体有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。