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一种具有宽度周期性渐变表面的全息光栅的制备方法，包括如下步骤：步骤1：使用材料生长技术，在一洁净衬底表面沉积薄膜材料；步骤2：在薄膜材料上旋涂光刻胶并前烘；步骤3：利用全息干涉曝光技术，曝光、显影得到图形化的光刻胶掩膜板，从而形成由衬底、薄...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。

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