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本发明涉及一种反应腔室，所述反应腔室包括反应室；托盘，设置于所述反应室内；喷淋头，设置于所述反应室内，并位于所述托盘的上方；所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离为15mm～100mm，所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘...
该专利属于光垒光电科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光垒光电科技（上海）有限公司授权不得商用。

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