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本发明涉及一种提高355nm高反膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对355nm激光高反膜中限制阈值的最根本因素——镀膜材料的能带隙，能带隙越大，阈值就越高。常规的355nm高反膜由规整1/4波长厚度的HfO2和SiO2...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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