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本实用新型提供一种用于直拉单晶硅的石墨坩埚，该石墨坩埚外壁R处圆弧半径为60mm，在石墨坩埚底部增加三个排气缺口。这种结构使得壁厚过度比由99.5％降到82％，减少了R处内应力，延长坩埚的使用寿命，使拉晶体过程产生的氧化物气体易从排气口及时...
该专利属于江西豪安能源科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西豪安能源科技有限公司授权不得商用。

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