下载成膜装置的技术资料

文档序号:8932345

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本发明提供一种成膜装置,其提高成膜处理的稳定性。本发明的成膜装置(1)通过等离子体束(P)加热成膜材料(Ma),使从成膜材料(Ma)气化后的成膜材料粒子(Mb)附着在基板(11)上来成膜,其具备:真空容器(10),形成真空环境;主阳极(3)...
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