温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提出的可有效减少孔显影缺陷的显影方法，其步骤包括：A.RRC润湿；B.RRC去除；C.第一次显影；D.显影液去除；E.第二次显影；F.显影液去除；G.低速短时清洗；H.第一次高速长时清洗；I.清洗液去除；J.第二次高速长时清洗；K.清...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。