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本发明公开的多膜层基板的制备方法包括：在衬底上形成第一膜层，并在第一膜层的对位区域中形成一组特定对位标识；在第一膜层上依次形成多层后续膜层和一顶层膜层。针对每一层后续膜层的构图工艺：将掩膜板中的对位标识与特定对位标识对位，进行曝光，且在构图...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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