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本发明公开了一种用于DNA检测的多电极纳米孔装置及其制造方法，该纳米孔装置包括第一SiO2绝缘层、Si基底、SiO2掩膜层、Pt门电极、第二SiO2绝缘层、微米Pt径向电极、第三SiO2绝缘层、腐蚀槽、纳米通孔、电子束诱导沉积SiO2栅极绝...
该专利属于东南大学所有，仅供学习研究参考，未经过东南大学授权不得商用。

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