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本发明涉及式(I)的化合物，其中R1是氢或低级烷基；R2是氢或是任选地被以下各项取代的杂芳基：一个或多个卤素、低级烷基、被卤素取代的低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷氧基、氰基、S-低级烷基、S(O)-低级烷基、S(O)2-低级烷基、...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。

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