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本实用新型提出气吹单元及化学机械研磨设备，通过添加喷气喷杆和供气管对置放于气吹室内的半导体元件表面进行气体吹拂，使半导体元件表面形成一层保护层，从而防止半导体元件表面被部分氧化，避免产生污染物。进一步的，本实用新型还提出一种化学机械研磨设备...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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