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本发明提供一种用于化学机械平面化装置的晶片托架，该晶片托架包括一真空夹盘和一卡环。所述真空夹盘被构造成保持一晶片并使该晶片旋转，从而在抛光垫上对晶片的表面外形进行平面化。所述真空夹盘包括一用于保持晶片的内区和一外区，另外还具有一槽，该槽适用...
该专利属于兰姆研究有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰姆研究有限公司授权不得商用。

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