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在存在浆液（１１６）之类的抛光介质的情况下使用抛光层（１０８，２０８）抛光制品（例如晶片（１１２，２１２））表面（１２０）的方法。该方法包括对制品的转速或抛光层的速度或这二者进行选择，以控制去除速率均匀性或抛光表面缺陷的产生，或此二者。...该专利属于罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股股份有限公司授权不得商用。
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在存在浆液（１１６）之类的抛光介质的情况下使用抛光层（１０８，２０８）抛光制品（例如晶片（１１２，２１２））表面（１２０）的方法。该方法包括对制品的转速或抛光层的速度或这二者进行选择，以控制去除速率均匀性或抛光表面缺陷的产生，或此二者。...