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一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，利用...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面(22)上。在下一个步骤中，利用...