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本发明涉及流体处理组件，其包括定位在相对的端部件之间的一个或多个交叉流动流体处理单元。流体处理单元包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质。流体处理组件还包括进给物入口和进给通路、渗透物出口和渗透物通路以及滞留物出口和滞留物通路。进给通路...
该专利属于帕尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过帕尔公司授权不得商用。

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