流体处理组件、用于流体处理组件的歧管和用于处理流体的方法技术

本发明专利技术涉及流体处理组件，其包括定位在相对的端部件之间的一个或多个交叉流动流体处理单元。流体处理单元包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质。流体处理组件还包括进给物入口和进给通路、渗透物出口和渗透物通路以及滞留物出口和滞留物通路。进给通路将进给流体从进给物入口引导到可渗透介质，并且沿着可渗透介质的进给侧切向地引导进给流体。渗透物通路将渗透物从可渗透介质的渗透侧引导到渗透物出口。滞留物通路将滞留物从可渗透介质的进给侧引导到滞留物出口。流动限制器定位在滞留物通路中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及，其可以用来在单用途或多用途应用中以多种方式中的任一种方式处理各种各样的流体。实施本专利技术的每个流体处理组件都可以包括定位在相对的端部件之间的一个或多个交叉流动流体处理单元。每个流体处理单元都可以包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质。待处理的流体被称为进给流体或过程流体。流体处理组件可以包括进给流体入口和进给通路，该进给通路将进给流体从进给流体入口引导到可渗透流体处理介质的进给侧，并且沿着可渗透流体处理介质的进给侧切向地引导进给流体。从进给侧穿过可渗透介质到达渗透侧的流体被称为渗透物或过滤物。流体处理组件还可以包括渗透物出口和渗透物通路，该渗透物通路将渗透物从流体处理介质的渗透侧引导到渗透物出口。没有穿过流体处理介质的流体被称为滞留物或聚集物。流体处理组件还可以包括滞留物出口和滞留物通路，该滞留物通路将滞留物从流体处理介质的进给侧引导到滞留物出口。另外，流体处理组件可以包括一个或多个歧管，流体入口、渗透物出口和滞留物出口可以位于该歧管上。具有进给物入口的歧管可以将进给流体经由进给通路从进给物入口分配到每个流体处理单元。具有渗透物出口的歧管可以将渗透物经由渗透物通路从每个流体处理单元引导到渗透物出口。具有滞留物出口的歧管可以将滞留物经由滞留物通路从每个流体处理单元引导到滞留物出口。在使用中，进给流体可以在压力下供应到流体处理组件的进给物入口。流体压力使得进给流体沿着进给通路到达每个流体处理单元的可渗透流体处理介质，然后沿着可渗透介质的进给侧切向地推动该进给流体。进给侧上的流体压力高于可渗透介质的渗透侧上的流体压力。这种压差或差压使得进给流体的一部分作为渗透物或过滤物从进给侧穿过可渗透介质到达渗透侧。流体压力使得渗透物从渗透侧沿着渗透物通路到达渗透物出口。流体压力使得进给流体的没有穿过可渗透介质的其余部分(即滞留物或聚集物)沿着滞留物通路到达滞留物出口。渗透物、滞留物或这两者都可以是期望的产品。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，流体处理组件可以包括相对的第一和第二端部件以及定位在第一和第二端部件之间的至少一个流体处理单元。流体处理单元可以包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质。每个流体处理组件还可以包括:进给物入口和进给通路，该进给通路从进给物入口穿过流体处理单元延伸到流体处理介质的进给侧；渗透物出口和渗透物通路，该渗透物通路从流体处理介质的渗透侧延伸到渗透物出口 ；以及滞留物出口和滞留物通路，该滞留物通路从流体处理介质的进给侧延伸到滞留物出口。每个流体处理组件还可以包括流动阻止器，该流动阻止器定位在滞留物通路中，以增大滞留物通路中的背压。根据本专利技术的另一个方面，用于在具有进给物入口、渗透物出口和滞留物出口的流体处理组件中处理流体的方法可以包括:在压力下从进给物入口通过流体处理组件中的进给通路供应进给流体，并且沿着可渗透流体处理介质的进给侧切向地供应该进给流体。每个方法还可以包括:将渗透物从可渗透流体处理介质的渗透侧通过流体处理组件中的渗透物通路引导到渗透物出口 ；以及将滞留物从可渗透流体处理介质的进给侧通过流体处理组件中的滞留物通路引导到滞留物出口。将滞留物引导通过滞留物通路可以包括:使滞留物穿过滞留物通路中的流动限制器，以增大滞留物通路中的背压。根据本专利技术的另一个方面，用于具有至少一个交叉流动流体处理单元的流体处理组件的歧管可以包括本体、滞留物出口、滞留物通路和流动限制器。本体可以具有滞留物开口，以用于从流体处理组件接纳滞留物。滞留物出口可以处于本体上，并且滞留物通路可以通过本体从滞留物开口延伸到滞留物出口。流动限制器可以定位在滞留物通路中，并且被构造为增大滞留物流过滞留物通路的阻力。实施本专利技术的流体处理组件、歧管和方法具有许多优点。例如，将流动限制器定位在流体处理组件的滞留物流体通路中增大了滞留物通路中的背压(即对流体流动的阻力)，这可以增大流体处理单元的可渗透流体处理介质的进给侧处的压力。增大进给侧压力增大了可渗透介质两侧的压差，并且使得进给流体的较大部分作为渗透物从进给侧穿过可渗透介质。如果渗透物是期望产品，那么能够在渗透物出口处获得较大体积的期望渗透物。如果滞留物是期望产品，那么被迫穿过可渗透介质的较大体积的渗透物消除了较多的不那么期望的渗透物，并且进一步聚集了能够在滞留物出口处获得的较多的期望滞留物。另外，在滞留物通路中提供流动限制器显著地方便了流体处理组件在流体系统中的安装和使用。因为流体处理组件包括滞留物通路中的流动限制器，所以流体系统可以包括较少的需要连接到滞留物出口且被调节以控制来自滞留物出口的滞留物流动的外部阀。相反，通过将流体处理组件的进给物入口以及渗透物和滞留物出口简单地连接到流体系统的适当的端口并且在压力下将进给流体供应到流体处理组件的进给物入口，流体处理组件可以快速且容易地安装和使用。对于本专利技术的许多但非全部实施例而言，在歧管内的滞留物通路中提供流动限制器是尤其高效和方便的。在以下的描述和附图中进一步公开了本专利技术的一些实施例的其它特征和优点。附图说明图1为流体处理组件的代表图。图2为图1的流体处理组件的歧管的平面图。图3为另一个歧管的平面图。图4为另一个歧管的一部分的横截面图。图5为另一个流体处理组件的代表图。图6为限制器部件的侧视图。图7为另一个流体处理组件的代表图。图8为另一个流体处理组件的代表图。图9为另一个流体处理组件的代表图。图10为另一个流体处理组件的代表图。具体实施例方式实施本专利技术的一个或多个方面的流体处理组件可以以各种各样的方式构造。图1中示出了流体处理组件10的许多不同例子中的一个例子。总体上，流体处理组件10可以包括多层结构，该多层结构包括相对的端部件11、12以及定位在端部件11、12之间的一个或多个交叉流动流体处理单元13。每个流体处理单元13都可以包括具有进给侧15和相对的渗透侧16的可渗透流体处理介质14。流体处理组件10还可以包括:至少一个进给物入口 20和进给通路22，该进给通路22用于将进给流体从进给物入口 20引导到至少一个可渗透介质14的进给侧15 ;至少一个渗透物出口 22和渗透物通路23，该渗透物通路23用于将渗透物从每个可渗透介质14的渗透侧16引导到渗透物出口 22 ;以及至少一个滞留物出口24和滞留物通路25，该滞留物通路25用于将滞留物从至少一个可渗透介质14的进给侧15引导到滞留物出口 24。流体处理组件10还包括流动限制器26，该流动限制器26定位在滞留物通路25中多个位置的任一个位置处，以增大滞留物通路25内的背压(即对流体流动的阻力)。每个交叉流动流体处理单元14都可以以多种方式中的任一种构造，并且每个流体处理单元14的尺寸和形状可以从一个流体处理组件到另一个流体处理组件而改变。例如，每个流体处理单元都可以包括密封在外壳内的可渗透流体处理介质的一个或多个层，以限定可渗透介质的进给侧和渗透侧。一个或多个进给通道、渗透物通道和滞留物通道可以在外壳内延伸，以将进给流体供应到可渗透介质的进给侧，从可渗透介质的渗透侧接收渗透物，并且从可渗透介质的进给侧接收滞留物。进给通道可以形成进给通路21的一部分，渗透物通道可以形成渗透物通路23的一部分，并且滞留物通道可以形成滞留物通路25的一部分。或本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.12 US 61/522,7081.一种流体处理组件，其包括: 相对的第一端部件和第二端部件； 至少一个流体处理单元，所述至少一个流体处理单元定位在所述第一端部件和所述第二端部件之间，所述流体处理单元包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质； 进给物入口和进给通路，所述进给通路从所述进给物入口通过所述流体处理单元延伸到所述流体处理介质的所述进给侧； 渗透物出口和渗透物通路，所述渗透物通路从所述流体处理介质的所述渗透侧通过所述流体处理单元延伸到所述渗透物出口； 滞留物出口和滞留物通路，所述滞留物通路从所述流体处理介质的所述进给侧通过所述流体处理单元延伸到所述滞留物出口；以及 流动限制器，所述流动限制器定位在所述滞留物通路中，所述流动限制器被构造为增大所述滞留物通路中的背压。2.根据权利要求1所述的流体处理组件，其还包括定位在所述第一端部件和所述第二端部件之间的歧管，其中所述歧管包括所述滞留物出口，并且所述滞留物通路从所述流体处理介质的所述进给侧通过所述流体处理单元和所述歧管延伸到所述滞留物出口。3.根据权利要求2所述的流体处理组件，其中所述流动限制器在所述歧管中定位在所述滞留物通路中。4.根据权利要求2所述的流体处理组件，其中所述歧管包括本体和附接到所述本体的限制器层，所述滞留物通路延伸通过所述限制器层，并且所述流动限制器在所述限制器层中设置在所述滞留物通路中。5.根据权利要求2所述的流体处理组件，其还包括定位在所述第一端部件和所述第二端部件之间的限制器 部件，其中所述滞留物通路延伸通过所述限制器部件，并且所述流动限制器在所述限制器部件中设置在所述滞留物通路中。6.根据权利要求2、3、4或5所述的流体处理组件，其中所述滞留物出口包括第一滞留物出口，且所述歧管还包括第二滞留物出口，并且其中第一滞留物出口在第一位置中与所述流动限制器流体连通，所述第一位置提供所述滞留物通路中背压的第一增大，并且所述第二滞留物出口在第二位置中与所述流动限制器流体连通，所述第二位置提供所述滞留物通路中背压的第二增大，所述第二增大小于所述第一增大。7.根据权利要求2、3、4或5所述的流体处理组件，其中所述滞留物出口包括与所述流动限制器流体连通的第一滞留物出口，并且其中所述歧管还包括第二滞留物出口，所述第二滞留物出口与所述滞留物通路流体连通并且绕过所述流动限制器。8.根据权利要求1所述的流体处理组件，其中所述第一端部件和所述第二端部件中的至少一个包括歧管，并且其中所述歧管包括所述滞留物出口，并且所述滞留物通路从所述流体处理介质的所述进给侧通过所述流体处理单元和所述歧管延伸到所述滞留物出口。9.根据权利要求8所述的流体处理组件，其中所述流动限制器在所述歧管中定位在所述滞留物通路中。10.根据权利要求8所述的流体处理组件，其中所述歧管包括本体和附接到所述本体的限制器层，所述滞留物通路延伸通过所述限制器层，并且所述流动限制器在所述限制器层中设置在所述滞留物通路中。11.根据权利要求8所述的流体处理组件，其还包括定位在所述第一端部件和所述第二端部件之间的限制器部件，其中所述滞留物通路延伸通过所述限制器部件，并且所述流动限制器在所述限制器部件中设置在所述滞留物通路中。12.根据权利要求8、9、10或11所述的流体处理组件，其中所述滞留物出口包括第一滞留物出口，且所述歧管还包括第二滞留物出口，并且其中第一滞留物出口在第一位置中与所述流动限制器流体连通，所述第一位置提供所述滞留物通路中背压的第一增大，并且所述第二滞留物出口在第二位置中与所述流动限制器流体连通，所述第二位置提供所述滞留物通路中背压的第二增大，所述第二增大小于所述第一增大。13.根据权利要求8、9、10或11所述的流体处理组件，其中所述滞留物出口包括与所述流动限制器流体连通的第一滞留物出口，并且其中所述歧管还包括第二滞留物出口，所述第二滞留物出口与所述滞留物通路流体连通并且绕过所述流...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·珀尔，C·塞耶，S·梅西尔，
申请(专利权)人：帕尔公司，
类型：
国别省市：