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提供了通过原子层沉积形成含金属的膜的方法。该方法包含将至少一种前体基材送递到基材，其中所述至少一种前体在结构上对应于式(II)：其中：M是Hf或Zr；R是C1-C6-烷基；n是零、1、2、3、4或5；L是C1-C6-烷氧基。提供了通过液体注...
该专利属于西格玛-奥吉奇有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过西格玛-奥吉奇有限责任公司授权不得商用。

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