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本发明公开了一种复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备，包括镀膜腔体单元。镀膜腔体单元由左右对称的左腔体和右腔体组成，左腔体和右腔体分别构成独立的镀膜腔；镀膜腔包括靶材架和基片架；左腔体和右腔体的基片架位于镀膜腔体单元的中间，中间通过隔板...
该专利属于有度功能薄膜材料扬州有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过有度功能薄膜材料扬州有限公司授权不得商用。

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