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本发明的一个方式提供一种柔性衬底处理装置，该柔性衬底处理装置能够对形成在柔性衬底上的膜状结构体所包含的氧化物稳定地进行还原处理。上述装置结构包括：发送形成有膜状结构体的柔性衬底的衬底搬出部；将形成在柔性衬底上的膜状结构体所包含的氧化物电化学...
该专利属于株式会社半导体能源研究所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社半导体能源研究所授权不得商用。

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