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本发明涉及一种微电子用超纯氟铵系列蚀刻液的制备方法，该方法以工业级液氨及工业级干态氟化氢为原料，首先通过提纯分别获得浓度为28.0wt%~31.0wt%的高纯氨水和浓度为50.0wt%~60.0wt%的高纯氢氟酸，再使二者在40.0±0.5...
该专利属于苏州晶瑞化学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州晶瑞化学有限公司授权不得商用。

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