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本实用新型涉及表面防护领域，具体地说是一种改善电弧离子镀沉积工艺的高效动态耦合磁控弧源装置。该装置的轴对称磁场发生装置放置于靶材后面，由放置于靶材后面的高导磁率磁轭及与磁轭同轴放置的电磁线圈组成，或者由单个或两个以上永久磁体配合磁轭组成；聚...
该专利属于温州职业技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过温州职业技术学院授权不得商用。

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