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近场平版印刷掩模及其制造制造技术
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文档序号:8687833
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公开了制造形成纳米图案的滚筒光掩模的方法。具有大小范围为从约1纳米至约100微米的形貌的底版图案可在底版基底上形成。弹性体材料层可在透明滚筒的表面上形成。底版图案可从底版转印至所述透明滚筒表面上的弹性体材料层。可选地,形成纳米图案的滚筒光掩...
该专利属于罗利诗公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗利诗公司授权不得商用。
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