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本发明涉及一种用于容纳要在真空处理工艺中处理的基板的真空室，其包括气体入口（7）和气体分配系统（9），所述气体入口（7）连接至用于容纳气体（A、B）的气体源，所述气体分配系统（9）用于将所述气体（A、B）从所述气体入口（7）分配到在朝向所述...
该专利属于东电电子太阳能股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过东电电子太阳能股份公司授权不得商用。

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