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本发明涉及流体产品分配设备的表面处理方法。该方法包括用多电荷且多能量的离子束通过离子植入对与所述流体产品接触的所述设备的至少一部分的至少一个待处理表面进行改性的步骤，改性的所述待处理表面具有防止所述流体产品和改性的所述待处理表面之间的相互作...
该专利属于阿普塔尔法国简易股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿普塔尔法国简易股份公司授权不得商用。

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