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一种强磁性材料溅射靶，其组成为Cr为20摩尔%以下、Pt为5～30摩尔%、SiO2为5～15摩尔%、Sn为0.05～0.60摩尔%、其余为Co，其特征在于，在金属基质（A）中分散的SiO2的粒子（B）中，含有所述Sn。本发明的目的在于得到可...
该专利属于吉坤日矿日石金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过吉坤日矿日石金属株式会社授权不得商用。

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