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本发明提供了一种半导体光检测装置制备技术，其中，在单一的、自对准光刻模块中进行顶部蚀刻和防反射涂层步骤。...
该专利属于太阳光电公司所有，仅供学习研究参考，未经过太阳光电公司授权不得商用。

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