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本发明公布了一种采用磷埋层及浓磷埋层技术的双极横向PNP管制作工艺，包括如下步骤，投料、氧化、磷埋层光刻、注入、磷埋层退火、硼埋层光刻、注入、浓磷埋层光刻、注入、浓磷埋层退火、N型外延、深磷扩散、隔离扩散、基区注入、浓硼注入、基区退火、N+...
该专利属于无锡友达电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡友达电子有限公司授权不得商用。

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