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本发明涉及半导体领域，具体的说是一种晶圆的生产中的清洗方法。在晶圆的生产中晶片以及设置在清洗装置上的毛刷分别自旋转，使毛刷与晶圆之间进行相对摩擦运动，并在自转过程中由清洗装置上上设置的喷头向晶圆上喷淋清洗液；所述清洗液为肥皂水。通过本发明的...
该专利属于沈阳芯源微电子设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳芯源微电子设备有限公司授权不得商用。

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