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本发明是有关高容量MLDC(积层薄膜电容，Multi-Layer?Deposition?Capacitor)制造设备的发明。已公示的本发明设备中为晶片的出入，侧面安装了多个闸阀。具备通过闸阀传送晶片的机械臂转换室和利用转换室供应晶片的卡座；...
该专利属于尹剑所有，仅供学习研究参考，未经过尹剑授权不得商用。

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