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本发明公开了一种非感光性聚酰亚胺光刻工艺方法，包括如下步骤：1)提供一需要制作非感光性聚酰亚胺图形的基片；2)在所述基片上旋涂非感光性聚酰亚胺；3)非感光性聚酰亚胺的多步软烘；4)光刻胶的旋涂和烘烤；5)经曝光、显影获得所需的非感光性聚酰亚...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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