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本发明公开了一种微米管制造工艺，包括：在基底上旋涂光刻胶，使用图形为圆形的掩模进行曝光，其中掩膜圆形的直径等于所要加工的微米管的外径；将所述曝光后的基底放到显影液中进行显影，在基底上获得光刻胶的微米管结构；对所述显影后带有光刻胶微米管结构的...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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