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本发明提供一种成膜装置及成膜方法。光CVD装置(成膜装置)(1)通过对原料气体照射光而生成晶种，并通过使晶种在基板(2)上堆积而使膜成长，并且在光源(13)和保持基板(2)的样品台(基板保持部)(14)之间配置遮光板(遮光构件)(20)。遮...该专利属于株式会社日立高新技术;株式会社日立国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术;株式会社日立国际电气授权不得商用。