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本发明涉及一种单晶硅片预清洗液及其清洗方法。其特征在于由下列组成物组成：所述的预清洗液是由双氧水、氢氧化钠或氢氧化钾和水组成。其特征在于由下列组成物组成：双氧水，氢氧化钠或氢氧化钾，水。一种利用权利要求1所述一种单晶硅片预清洗液的清洗方法，...
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