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本发明涉及一种用于在真空处理室内支撑基板（9）的基座，其包括平面（11），用于将基板（9）安置在其上，使得基板（9）与平面（11）导热接触，基座（1）包括至少三个相邻的区域（5、6、8）：外部区域（8）、中间区域（6）和内部区域（5），所述...
该专利属于东电电子太阳能股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过东电电子太阳能股份公司授权不得商用。

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