专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
巴斯夫欧洲公司
>
用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法技术
>技术资料下载
下载用于化学机械抛光包含氧化硅电介质和多晶硅膜的衬底的含水抛光组合物和方法的技术资料
文档序号:8659025
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
发现了一种含水抛光组合物,所述含水抛光组合物包含:(A)至少一种磨料颗粒,当其分散于不含组分(B)且pH值为3-9的含水介质中时带正电荷,如电泳迁移率所证实的那样;(B)至少一种选自线性和支化氧化烯均聚物和共聚物的水溶性聚合物;和(C)至少...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。