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本发明公开了一种在衬底上沉积多层材料层的方法及化学气相沉积设备。采用了多个生长腔室,将沉积的多层材料层分在多个生长腔室内进行,至少两个生长腔室用于生长多层材料层的不同层材料层,如此一方面使得不同的生长腔室能够很容易满足不同材料层生长的温度、...该专利属于光达光电设备科技(嘉兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过光达光电设备科技(嘉兴)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种在衬底上沉积多层材料层的方法及化学气相沉积设备。采用了多个生长腔室,将沉积的多层材料层分在多个生长腔室内进行,至少两个生长腔室用于生长多层材料层的不同层材料层,如此一方面使得不同的生长腔室能够很容易满足不同材料层生长的温度、...