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激光CVD镀膜设备制造技术
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文档序号:8653391
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本发明提供了一种激光CVD镀膜设备,包括上壳体与下壳体,上壳体盖合于下壳体上以形成密封的CVD腔体,上壳体内安装有用于带动待镀膜材料在平面移动并确定位置的平面定位装置,待镀膜材料安装于平面定位装置上;下壳体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置...
该专利属于王奉瑾所有,仅供学习研究参考,未经过王奉瑾授权不得商用。
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