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本发明涉及一种基片承载装置，所述基片承载装置应用于金属有机化学气相沉积设备中，所述基片承载装置包括承载板，所述承载板包括支撑面，待处理衬底设置于所述支撑面，所述承载装置进一步包括多个定位销，所述定位销设置于所述支撑面，所述定位销用于限定待处...
该专利属于光达光电设备科技（嘉兴）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光达光电设备科技（嘉兴）有限公司授权不得商用。

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