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本发明解决的技术问题是提供了一种化学气相沉积工艺的石墨盘和含有上述石墨盘的反应腔室,其中所述石墨盘具有用于放置衬底的凹槽,包括:孔洞,位于与所述衬底的边缘对应的石墨盘中,所述孔洞用于减少对衬底边缘的热辐射。本发明减小了衬底的边缘与衬底的中部...该专利属于光达光电设备科技(嘉兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过光达光电设备科技(嘉兴)有限公司授权不得商用。
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本发明解决的技术问题是提供了一种化学气相沉积工艺的石墨盘和含有上述石墨盘的反应腔室,其中所述石墨盘具有用于放置衬底的凹槽,包括:孔洞,位于与所述衬底的边缘对应的石墨盘中,所述孔洞用于减少对衬底边缘的热辐射。本发明减小了衬底的边缘与衬底的中部...