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本发明实施例提供一种化学气相沉积工艺的石墨盘、反应腔室和对衬底的加热方法,其中所述石墨盘具有凹槽,所述凹槽所在的位置具有与之对应的支撑架,所述支撑架用于将衬底悬置,使得衬底与石墨盘不接触。本发明通过将衬底悬置,使得石墨盘对衬底的加热为热辐射...该专利属于光达光电设备科技(嘉兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过光达光电设备科技(嘉兴)有限公司授权不得商用。
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本发明实施例提供一种化学气相沉积工艺的石墨盘、反应腔室和对衬底的加热方法,其中所述石墨盘具有凹槽,所述凹槽所在的位置具有与之对应的支撑架,所述支撑架用于将衬底悬置,使得衬底与石墨盘不接触。本发明通过将衬底悬置,使得石墨盘对衬底的加热为热辐射...