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本发明实施例提供一种化学气相沉积设备的反应腔室，包括：基座，所述基座用于放置衬底；至少两个喷淋头，与基座相对设置，所述喷淋头用于向所述衬底提供反应气体，每个喷淋头下方至少可以放置一个衬底。本发明解决了反应腔室中的大尺寸的喷淋头难以加工、大尺...
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