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本发明实施例解决的技术问题是提供一种用于气相沉积工艺的反应腔室，包括：托盘，其上表面用于放置衬底；腔室侧壁，环绕所述托盘一周，还包括：构件，至少有一部分环绕所述托盘的边缘，所述构件用于改进托盘的边缘的气流场、温度场或浓度场的均匀性。本发明实...
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