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本发明公开了一种抛光垫清洗液及其使用方法，属于硅晶片抛光垫清洗技术领域。本发明的清洗液包括聚氧乙烯醚非离子表面活性剂、清洗助剂、结块防止剂、增溶剂、润湿剂和PH调节剂，所述清洗液的pH值为8.0～10.0。在循环抛光过程中，抛光之后将本发明...该专利属于深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市力合材料有限公司;清华大学;深圳清华大学研究院授权不得商用。