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本发明提供一种金属膜的干蚀刻方法。该金属膜的干蚀刻方法不使用卤素气体并能够使孔、沟槽的侧壁形状更接近铅垂。隔着掩模层对含有铂金的金属膜进行干蚀刻的金属膜的干蚀刻方法使由含有氢气、二氧化碳气体、甲烷气体以及稀有气体的混合气体构成的蚀刻气体产生...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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