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本发明涉及用于制造包括二氧化硅层的光伏元件的方法，更具体而言涉及太阳能电池的制造。在这种情况下，使用附加的二氧化硅层，该二氧化硅层是通过具有小于200nm的波长的UV照射而制造的，并且可以改善在硅上的界面特性，可以帮助减少由表述“背景镀覆”...
该专利属于欧司朗股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过欧司朗股份有限公司授权不得商用。

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