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一种平面磁控溅射阴极，其包括靶材、磁体装置、磁靴，所述磁体装置装设于靶材的背面，所述磁体装置包括平行且间隔设置的三第一磁体，该三第一磁体分别设置于靶材的两侧和中间，该磁体装置还包括四第二磁体，该四第二磁体为两两一组设置于相邻的二第一磁体之间...该专利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。