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文档序号:8590512
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一种溅射方法,在基板(21)的处理面上形成磁场、使用高放电电力并通过斜入射溅射对磁性膜进行成膜的情况下,能够形成膜厚或表面电阻的面内分布的均匀性良好的膜。溅射装置(1)具备:基板保持架(22),其保持基板(21),使基板能够绕与基板处理面垂...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。
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