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本发明公开了一种钼钠合金旋转溅射管形靶材的制备工艺，包括如下步骤：1）备料：所用粉末为钼粉、钼酸钠粉末；粉末的物理性质为：钼粉的Mo含量≥99.95%，粒度3~5μm；钼酸钠粉，钼酸钠含量≥99.0%，粒度20~40μmμm；2）配粉：将钼...该专利属于洛阳高新四丰电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洛阳高新四丰电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种钼钠合金旋转溅射管形靶材的制备工艺，包括如下步骤：1）备料：所用粉末为钼粉、钼酸钠粉末；粉末的物理性质为：钼粉的Mo含量≥99.95%，粒度3~5μm；钼酸钠粉，钼酸钠含量≥99.0%，粒度20~40μmμm；2）配粉：将钼...