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本发明是有关于一种在前一次刻划后，下一次刻划时不受残留冷媒影响的刻划装置。本发明的刻划装置A具备工作台(1)、刻划头(9)、及使刻划头(9)相对工作台(1)移动的移动机构(6、8、M)；刻划头(9)具备激光照射部(10)，其对工作台(1)上...
该专利属于三星钻石工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星钻石工业股份有限公司授权不得商用。

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