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本发明公开了半导体制造技术领域，特别涉及一种腔室气流控制系统及方法。本发明包括PCC控制器和至少一个腔室控制单元；腔室控制单元包括压力传感器、风机过滤器、和所述风机过滤器连接的状态检测单元、与所述压力传感器、风机过滤器和状态检测单元连接的数...
该专利属于北京七星华创电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京七星华创电子股份有限公司授权不得商用。

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